हफ़नियम नाइट्राइड; Hafnium नाइट्राइड HfN
गुण: ग्रे पाउडर, घन क्रिस्टल संरचना। पिघलने बिंदु 3310 ℃, 16GPa micro Microness। काफी स्थिर, लेकिन एक्वा रेजिया के लिए आसान, केंद्रित सल्फ्यूरिक एसिड, हाइड्रोफ्लोरिक एसिड जंग। उच्च शुद्धता, छोटे कण आकार, समान वितरण, बड़े विशिष्ट सतह क्षेत्र, उच्च सतह गतिविधि, ग्रे पाउडर, घन क्रिस्टल संरचना। माइक्रोहर्डनेस 16GPa।
900 ℃ पर हेफ़नियम और नाइट्रोजन की प्रत्यक्ष प्रतिक्रिया द्वारा उत्पादित, या हेफ़नियम हालिड्स और अमोनिया या नाइट्रोजन और हाइड्रोजन के मिश्रण की प्रतिक्रिया से। Hafnium मिश्र धातु दुर्दम्य यौगिक का एक महत्वपूर्ण घटक है।
उत्पाद व्यवहार्यता:
हाफ़नियम नाइट्राइड में उत्कृष्ट यांत्रिक, विद्युत, ऑप्टिकल, उच्च तापमान और संक्षारण प्रतिरोध विशेषताएं हैं, और यांत्रिक विनिर्माण और माइक्रोइलेक्ट्रॉनिक के क्षेत्र में बहुत महत्वपूर्ण अनुप्रयोग हैं। हाफ़नियम नाइट्राइड नैनोमीटर का व्यापक रूप से अर्धचालक, फोटोइलेक्ट्रिक और मशीनिंग क्षेत्रों में उपयोग किया जा सकता है। उत्कृष्ट यांत्रिक, थर्मल, ऑप्टिकल और जंग पहनने के प्रतिरोध विशेषताओं की एक किस्म के एकीकरण के कारण, हेफ़नियम नाइट्राइड नैनोमीटर फिल्म एक कुशल ऑप्टिकल विंडो विरोधी प्रतिबिंब सुरक्षा कोटिंग सामग्री बनने की उम्मीद है, एयरोस्पेस कुंजी ऑप्टिकल उपकरणों में इस्तेमाल किया जा सकता है। HfN उच्च पिघलने बिंदु, उच्च कठोरता, पहनने के प्रतिरोध और ऑक्सीकरण प्रतिरोध के साथ एक नई प्रकार की कठोर सामग्री है। यह तकनीकी और सजावटी क्षेत्रों के लिए सुरक्षात्मक परत के रूप में इस्तेमाल किया जा सकता है, काटने के उपकरण के लिए घर्षण प्रतिरोधी बाहरी फिल्म, रासायनिक निष्क्रिय फिल्म और उच्च तापमान प्रतिरोधी सुरक्षात्मक फिल्म।